Masken können entweder auf die Quellenebene eines Replikators (die als Quelle für Replikatorzellen zur Erzeugung der sich wiederholenden Elemente auf dem Bildschirm verwendet wird) oder auf den Replikator selbst angewendet werden.
Die folgenden Abbildungen veranschaulichen das Anwenden von Masken auf die Quellenebene eines Replikators.
Wenn eine maskierte Ebene als Quelle für eine Replikatorzelle verwendet wird, wird die Maske für die auf dem Bildschirm gezeigten Elemente übernommen.
Masken können auch auf die Replikatorebene angewendet werden.
Wenn die Maske auf einen Replikator angewendet wird, wird das gesamte Muster auf dem Bildschirm maskiert.
Hinweis: Masken können zwar nicht auf einen 3D-Replikator angewendet werden, aber auf ein Objekt, das als Musterquelle für einen 3D-Replikator verwendet wird.
Weitere Informationen zum Arbeiten mit Masken finden Sie unter Maskieren einer Ebene oder Gruppe.